元素分析范圍:從K到U
一次性可同時分析多層鍍層
分析厚度檢測出限*高達0.01um
同時可分析多達5層以上鍍層
相互獨立的基體效應校正模型,*厚度分析方法
多次測量重復性*高可達0.01um
長期工作穩定性小于0.1um(5um左右單鍍層樣品)
溫度適應范圍:15℃~30℃
輸出電壓220±5V/50HZ(建議配置交流凈化穩壓電源)
配置
開放式樣品腔
二維移動樣品平臺
探測器和X光管上下移動可實現三維移動
雙激光定位裝置
準直器自動切換裝置
玻璃屏蔽罩
正比計數盒探測器
信號檢測電子電路
高低壓電源
X光管
計算機及噴墨打印機
樣品腔尺寸:517mm×352mm×150mm
外型尺寸:648mm×490mm×544mm
2.1 ● 工作溫度:15
3、儀器硬件部分主要配置:
3.1 正比計數盒探測器
3.2 ● X 光管 ●高、低壓電源 ● MCA多道分析器
3.3 ●開放式樣品腔●二維移動樣品平臺●探測器和x光管上下移動可實現三維移動
3.4 ●雙激光定位裝置●準直器自動切換裝置●玻璃屏蔽罩●信號檢測電子電路
3.5 計算機及噴墨式打印機
4、儀器軟件配置:
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